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Ag

银(99.99%)
贵金属与贵金属合金纯贵金属纯贵金属(Au/Ag/Pt/Pd/Rh/Ir/Ru/Os)
数据完整度
68

银(99.99%)是金属中电阻率最低(1.59 µΩ·cm)、导热最高(429 W/(m·K))的材料,大电流触点、射频导体、导热界面因此优先考虑银。缺点同样明确:含硫环境(H₂S、橡胶硫化剂、含硫包装)会生成 Ag₂S,接触电阻从毫欧升到欧姆级;硬度低(HV 约 25)、易电迁移长出枝晶造成短路。工程上用 AgNi、AgW、AgSnO₂ 等合金化解决,纯银只用于对导电/导热要求压倒一切且环境可控的场合。★ 纯银按纯度交货,不做拉伸验收。

别名 / 旧代号4N银Ag99.99白银纯银银
典型用途
电触头基材、射频与微波导体、导电银浆(太阳能电池/厚膜电路)、导热界面、镀银
英文名
Silver (Ag 99.99)

按已录入性能数据的属性指纹计算,仅供初筛

怎么读数值:≥ / ≤标准保证值,可当验收依据典型值手册 / 厂商常见值,仅供参考置信度 A–FA 已核原文 · D 手册值 · F 公认常数

关键性能速览

纯贵金属按纯度(99.95%~99.99%)交货,物理常数为手册值、力学数据不作验收依据;选材先看用途再看这几格——银最导电但会硫化发黑,金稳定但贵,铂耐高温但导热差
电阻率 ρe
1.59μΩ·cmC退火态(供货态)
导热系数 k
429W/(m·K)C退火态(供货态)
熔点
961.78CC退火态(供货态)
密度 ρ
10.49g/cm³C退火态(供货态)
线膨胀系数 α
18.9×10⁻⁶/KC退火态(供货态)
弹性模量 E
82.7GPaC退火态(供货态)

热处理状态与交货状态

AR退火态(供货态)默认
说明
贵金属按纯度与加工硬化状态(退火/硬态)供货;本页物理常数为退火态室温值

力学性能

弹性模量 E82.7GPa
AR·20℃·t≤2 mm
82.7GPa典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
手册值;薄膜与蒸镀层的有效模量显著低于块体
室温拉伸弹性模量
泊松比 ν0.37
AR·20℃·t≤2 mm
0.37典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
金 0.44 是金属中的高值,直接照搬钢的 0.30 会让接触应力算偏
室温泊松比

物理性能

密度 ρ10.49g/cm³
AR·20℃·t≤2 mm
10.49g/cm³典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
纯度每提高一个 9 密度变化 <0.1%,可忽略
室温密度(20℃)

热性能

导热系数 k429W/(m·K)
AR·20℃·t≤2 mm
429W/(m·K)典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
薄膜与细丝的导热低于块体,界面热阻往往才是瓶颈
室温导热系数(20℃)
比热容 cp235J/(kg·K)
AR·20℃·t≤2 mm
235J/(kg·K)典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
20℃ 比热容
线膨胀系数 α18.9×10⁻⁶/K
AR·20~100℃·t≤2 mm
18.9×10⁻⁶/K典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
封接匹配要与被封接件(玻璃/陶瓷/半导体)成对核算,单看绝对值无意义
20~100℃ 平均线膨胀系数
熔化温度范围961.78C
AR·20℃·t≤2 mm
961.78C典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
熔点

电性能

电阻率 ρe1.59μΩ·cm
AR·20℃·t≤2 mm
1.59μΩ·cm典型值CPUREMETAL-HB#PHYS
纯度、退火态与晶粒尺寸都会影响;冷加工态电阻率可高 5~10%
20℃ 电阻率;IACS 导电率约 108.4%(以标准退火铜 1.7241 µΩ·cm 为 100%)

化学成分(熔炼分析)

含量单位为质量分数 %

元素最小 %最大 %典型 %类型置信备注
Ag99.99%——规定元素C纯度下限(3N5~4N);杂质总和 ≤0.01%,逐元素上限按供货证书

工艺适用性

「适用」= 常规设备即可做;「受限」= 能做但需附加条件;「不宜」= 技术上可行但不推荐;「不涉及」= 该工艺对本类材料不成立,收起在下方。

共 8 项工艺适用7受限1
真空自耗电弧熔炼(VAR)烧结与固结适用
工艺参数
真空 ≤1 Pa 或高纯氩保护,熔炼温度高于熔点 100~200℃
预期效果
脱气、均匀化铸锭、避免氧化夹杂
限制
★ 银在高温高真空下蒸气压高会挥发损失;铁/铅/铋/锑 ppm 级即显著劣化导电与键合性能
置信
D
区域熔炼烧结与固结适用
工艺参数
多道次区域熔炼,真空或高纯惰性气氛,速率 1~10 mm/min
预期效果
把纯度提到 5N~6N,用于键合丝、靶材、热电偶丝
限制
★ 只对分凝系数有利的杂质有效;产能低、成本高,3N~4N 工业纯不必用
置信
D
冷成形(冷镦/冷挤压)成形适用
工艺参数
冷轧/冷拔,单道次加工率 10~30%,总加工率超 60~80% 须中间退火
预期效果
轧成箔带、拉成丝材、冲成触点
限制
★ 加工硬化快,不及时退火会开裂;模具用硬质合金或金刚石,避免铁污染
置信
D
退火热处理适用
工艺参数
真空或高纯惰性气氛,200~600℃(视金属与加工率),保温后随炉冷
预期效果
消除加工应力、控制再结晶晶粒、恢复延性
限制
★ 金银在空气中退火也会吸附氧与硫,键合与镀层用材必须在真空或惰性气氛下退火
置信
D
钎焊连接适用
工艺参数
用银基(BAg)、金基(AuNi/AuGe)或钯基钎料,钎焊温度低于母材熔点 50~200℃
预期效果
连接贵金属与可伐合金/陶瓷/铜,接头导电导热好
限制
★ 含 Zn/Cd 的钎料蒸气压高,真空钎焊须选低蒸气压牌号;银钎料接头不宜用于含硫工况
置信
D
切削加工切削加工受限
工艺参数
锋利高速钢或硬质合金刀具、大前角、低速小进给,充分冷却
预期效果
车削、铣削贵金属零件与坩埚
限制
★ 软而粘,易粘刀;切屑与磨屑必须全部回收,材料成本远高于加工费
置信
D
电镀表面处理适用
工艺参数
镀金/镀银/镀铑/镀钯,镀层 0.05~5 μm;前处理须彻底除油与活化
预期效果
以低成本获得贵金属表面性能(接触电阻、抗变色、耐磨)
限制
★ 镀层孔隙率决定防护寿命;镀银在含硫环境会变色,镀铑耐磨抗变色最好但成本最高
置信
D
物理气相沉积(PVD)表面处理适用
工艺参数
蒸镀或磁控溅射,膜厚 10 nm~2 μm,基材温度按工艺 100~300℃
预期效果
在陶瓷/半导体/塑料上做导电层、装饰层与红外反射层
限制
★ 附着力取决于基材清洁度与打底层(Ti/Ni/Cr);金膜软,耐磨场合须加硬层
置信
D

跨体系牌号对照

Ag9999高纯银 Ag9999大致相当
依据
Ag9999 为 99.99% 高纯银 属 Ag 家族牌号
差异
纯度高于一般工业银 导电导热性能一致
置信
D
来源
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告诉我们错在哪 —— 带上出处就能改
Ag 银(99.99%) — 性能、成分与工艺 · EngMatData